结构形式

真空室采用U型箱体前开门，后置抽气系统

真空室

500x500 x600mm

真空系统配置

复合分子泵、机械泵、闸板阀

极限压力

≤6.67x10^-5Pa (经烘烤除气后)

恢复真空时间

45分钟可达到6.67x10^-4Pa

电子束蒸发源

e型电子枪

阳极电压：6kv、8kv

数量(套)

1

坩埚

水冷式坩埚，四穴设计，每个容量11ml

功率

0-6KW可调

工件架类型及尺寸

基片尺寸：可放置4″基片加热最高温度800°C±1°C基片可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm可调 手动控制样品挡板组件1套

气路系统

质量流量控制器1路

石英晶振膜厚控制仪

监测膜厚显示范围：0-99μ9999Å